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  (1) C3N4納米晶的制備  采用圖7-7所示的裝置。靶材為光譜多晶石墨。液體為化學純氨水。保持波長為532nm,脈寬為8ns,重復頻率Nd:YAG脈沖激光金屬及其合金納米材料的裝置為SHz的脈沖激光束,聚焦于浸于氨水中的石墨靶上。氨水高于靶表面1-2mm。可制備出3-C3N4、a-C3N4和類石墨C3N4納米晶。
  (2)納米晶金剛石的制備  采用圖7-7所示的裝置。靶材為多晶石墨。液體為化學純丙酮,丙酮溶液高于靶表面1-2mm。保持波長為532nm,脈寬為lOns,重復頻率為SHz的脈沖激光束,聚焦于浸于丙酮中的石墨靶上,作用時間為30min,將溶液中的粉末干煤后收集起來就制備出了納米晶金剛石。
  (3)單質Co、Fe、Cu納米顆粒及其乙醇溶膠的制備  采用圖7-18所示的裝置。靶材用單質Co、Fe或Cu塊。裝置內用高純氮氣保護。保持波長為532nm,脈寬為8ns,重復頻率為IOHz的脈沖激光束,聚焦于浸于流動乙醇中的靶上,控制激光束焦點光斑直徑約1. Omm,調節(jié)乙醇以約1滴/s的流速流經(jīng)固體靶片,使乙醇淹沒過靶片的液層厚度始終保持在1—2 mm,制備出粒徑約為10—30nm,且分散性較好的單質Co、Fe或Cu納米顆粒乙醇溶膠。
  (4)納米Zn0乙醇溶膠的制備  采用圖7-18所示的裝置,以含水楊酸等修飾劑的無水乙醇作為流動相,將激光器輸出的波長為532nm脈沖激光束經(jīng)三棱鏡折射后,垂直穿過透鏡和石英透窗進入反應器聚焦于Zn0靶,激光束焦點光斑直徑小于Imm,流動相淹沒靶片的液層厚度為2—3mm,以200mj/脈沖的激光輸出功率和0. 025mL/s的流動相流速,制備得到濃度為2.1 X 10 -4mol/L的修飾納米Zn0乙醇溶膠,粒徑約為15-30nm,整個制備過程均在氮氣保護下進行。

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